目前几乎所有的芯片制造技术，均是基于光刻工艺来的。

而光刻工艺中，最重要的设备，就是光刻机。目前全球仅4家厂商，拥有前道光刻机生产能力，分别是荷兰的ASML、日本的佳能、尼康，中国的上海微电子。

不过市场主要被ASML垄断，其份额超过了85%，尼康、佳能又占了15%左右，上海微电子的份额几乎为0。

特别是EUV光刻机，ASML垄断100%，高端浸润式DUV光刻机，ASML垄断95%，另外5%为尼康占领，也就是说，从浸润式DUV光刻机开始，几乎全是ASML说了算。

而为了控制全球芯片市场，美国不允许ASML的光刻机随便卖，特别是EUV光刻机、浸润式DUV光刻机，要销售给谁，需要美国的许可证，美国就是通过这样的办法，来制霸全球，来限制中国芯片产业的发展。

而在这样的情况之下，中国厂商当然不会投降，也是努力的研发自己的光刻机，一旦国产光刻机突破，那么我们就不必依然从国外进口了，国产芯片产业也就再也不受限制，美国的禁令就成废纸了。之前我们的光刻机技术，其分辨率已经达到了90nm，处于干式DUV阶段。而近日，又一台国产光刻机曝光，采用193nm波长光源，分辨率小于等于65nm，套刻精度小于等于8nm，可用于12寸晶圆的制造。这台光刻机，虽然还是干式DUV，没有进入浸润式DUV的阶段，但在所有的干式DUV光刻机中，处于顶级水准了。

按照业界人士的预测，通过多重曝光，也许达不到28nm，但也不会太远了，这意味着中国光刻机，前进了一大步，接下来如果顺利的话，很快就会进入浸润式DUV，甚至是EUV光刻机阶段。

中国是ASML的最大客户，数据显示，2023年，中国从ASML买了600亿元的光刻机，而2024年一、二季度，中国贡献了49%，也是几百亿元。

所以，不仅是对于ASML而言，对于整个荷兰都是如此，一旦中国自研光的光刻机，能够替代ASML的光刻机了，那荷兰和ASML就损失大了。

所以近日，有媒体报道称，荷兰经济事务大臣贝尔亚尔茨访美时，请求美国允许ASML尽量自由的开展业务，意思很明显，就是一些光刻机能够放开限制，让ASML想卖就能卖，别再卡了，特别是针对中国的光刻机禁令，最好放松一些。

事实上，ASML的前CEO温克宁之前就表示过，一旦限制光刻机卖给中国，那么中国只要过几年，什么样的光刻机都能搞出来，如今看来，温克宁的预言，正在成为现实，压力已经给到ASML、荷兰和美国了。