作为全球第一大光刻机厂商，也是唯一掌握EUV光刻机技术的厂商，理论上而言，ASML的日子是相当滋润的。 毕竟EUV光刻机是制造7nm以下芯片必备机器，所以全球的顶尖芯片厂，都要抢ASML的EUV光刻机，看它的脸色行事，它卡着全球芯片厂商的脖子啊。 但是，从最近的情况来看，这家理论上风光无限的光刻机巨头，日子却也没有想象中的好过，原因就是它们的“印钞机”EUV光刻机，似乎失灵了。 我们知道，ASML的光刻机，是与芯片工艺应对的，KrF、ArF、ArFi、EUV等等，对应着不同的工艺。制造什么样的芯片，就要买哪一种光刻机。 而全球的芯片工艺不断前进，所以芯片厂商们，也要不断的买新光刻机，不停的更新换代，ASML为此赚的盆满钵满的。 但是进入到EUV之后，这种更新换代就难了，一方面是研发最新款的EUV光刻机，实在是太难，成本太高了。二是研发出来，也因为成本太高，芯片厂商们不愿意买，卖不掉啊。 先说研发难的问题，之前的EUV光刻机，其NA=0.33也就是数值孔径是0.33，而新一代叫做 High NA EUV，其...

近日，一些媒体报道了英国部署电子束光刻机相关的新闻，并号称打破ASML的EUV技术垄断。部分报道甚至号称这是全球第二台电子束光刻机，能绕过ASML。实际上当前没有任何信息表面该电子束曝光机可以用于5nm制程的芯片量产的光刻环节。在这些媒体的报道中，英国似乎已经拳打ASML，脚踢EUV了。 那事实真的如此吗？实际情况到底如何呢？ 英国部署全球第二台200kV电子束光刻设备 实际上，英国南安普敦大学宣布的是，成功开设了日本以外首个分辨率达5纳米以下的尖端电子束光刻(EBL)中心，可以制造下一代半导体芯片。这也是全球第二个，欧洲首个此类电子束光刻中心。 据介绍，该电子束光刻中心采用了日本JEOL的加速电压直写电子束光刻(EBL)系统，这也是全球第二台200kV系统（JEOL JBX-8100 G3）（第一台在日本），其可以在200毫米晶圆上实现低于5纳米级精细结构的分辨率处理。这可以在厚至10微米的光刻胶中实现，且侧壁几乎垂直，可用于开发电子和光子学领域研究芯片中的新结构。JEOL的第二代EBL设备——100kV JEOL...

在最近一个季度，英伟达、博通、AMD、英特尔、Marvell、SK海力士、美光和三星的数据中心相关出货量超过了 2200 亿美元的年出货量（不包括电源芯片）。 随着 LLM 的快速扩展，预计到 2030 年数据中心的半导体支出将超过 5000 亿美元，占整个半导体行业的 50% 以上。 那么，哪一系列芯片又会随着数据中心的走红同步受益？在此之前，先来了解一下数据中心。 数据中心可以分为IDC（Internet Data Center，互联网数据中心）、EDC（Enterprise Data Center，企业数据中心）、NSC（National Supercomputing Center，国家超级计算中心）。其中，IDC是电信业务经营者利用已有的互联网通信线路、带宽资源，建立标准化的电信专业级机房环境，通过互联网向客户提供服务器托管、租用以及相关增值等方面的全方位服务。 EDC是指由企业或机构构建并所有，服务于企业或机构自身业务的数据中心，是一个企业数据运算、存储和交换的核心计算环境，它为企业、客户及合作伙伴提供数据处理、数据访问等信息，应用支持服务。NSC是指由国家兴建、部署有千万...

沉睡70年的苏联技术,竟被华为唤醒?这一次,芯片行业又要变天了么? 上世纪50年代,苏联科学家曾尝试用三进制(0、1、2)替代传统二进制设计计算机,但因技术局限与历史原因,最终被二进制体系碾压。 然而,华为2025年3月公布的一项专利(CN119652311A),让这一沉寂半个多世纪的芯片技术涅槃重生。 华为的三进制专利早在2023年9月便申请,在今年3月才公之于众。 相比传统计算机基于二进制(以电路的通断(0/1)构建数字世界),华为的三进制设计引入了“无电荷”或“中间态”,数学上可表达为-1、0、1的对称体系。 单从逻辑复杂度看,三进制单变量函数从二进制的16种跃升至27种,这意味着相同算力任务下,三进制芯片的晶体管数量可减少30%,能耗仅为传统芯片的33%。 简而言之其核心在于实现了三进制逻辑值的“加减1”操作,并通过优化电路设计,将理论转化为可量产的芯片技术。 此前韩国蔚山科学技术大学团队曾在2019年验证三进制半导体的节能潜力,三星亦跟进研发,但华为此次专利首次将三进制逻辑门与计算电路、芯片封装全链路打通,为商业化铺平道路。 传统二...

在半导体设备这个领域中，光刻机一直是最大家关注的设备。原因是中国的光刻机技术，确实落后，按照专业人士的说法，如果与全球最顶尖的水平相比，可能落后在15-20年，这个差距不可谓不大。同时，ASML的光刻机，又受美国的监管，不能随便卖给中国，所以形势严峻，大家都希望国产光刻机崛起，能够替代ASML的光刻机。 而近日，传出消息，那就是中国第一大，全球第六大半导体设备企业，可能要进军光刻机市场了，这一消息传出，让网友们兴奋不已。这家企业就是北方华创，2024年，它的营收排名在全球第6名，仅次于ASML、应用材料、美国泛林、东京电子、科磊。而2023年的时候，它的排名还在全球第8名，2023年之前，更是连全球前10名都进不了。可见这几年，他的进步有多神速了。 为何说它要进军光刻市场？原因就是北方华为支付了16.87亿元，受让了芯源微9.49%股份，而芯源微自成立开始，始终深耕国内半导体光刻工艺设备，是国内涂胶显影设备、单片式湿法设备龙头。而北方华创，之前不涉及光刻这一块，主要是刻蚀、薄膜、清洗、热处理、晶体生长等核心工艺装备，且在...

4月9日，美国“对等关税”落地生效，对中国商品征收的关税上涨至104%。对此，我国外交部发言人林剑表示：“中国人民的正当发展权利不容剥夺，中国的主权、安全、发展利益不容侵犯。我们将继续采取坚决有力的措施，维护自身的正当权益。”商务部表示，如果美方执意进一步升级经贸限制措施，中方必将坚决反制，并奉陪到底。 美国此番加税，是继4月2日对中国加征34%税率后的又一次加征。为应对美国“关税战”，我国于4月4日出台多条反制措施，其中包括对原产于美国的所有进口商品，在现行适用关税基础上加征34%。自特朗普上任以来，一步步对我国加征关税：3月由原来的10%加征至20%，4月追加34%，现再以“中国未撤回反制”为由增加50%，最终总关税为104%。 关税大战引发一系列连锁反应。4月7日，全球股市大跌，金融市场遭遇“黑色星期一”。汽车行业深受影响，捷豹路虎、奥迪等车企计划暂停向美国出口汽车。 中汽中心资深首席专家吴松泉表示，由于我国对美国进口汽车产品也加征34%关税，将提高国内相关汽车及零部件企业...

2023年，因为众所周知的原因，中国在疯狂的建设芯片厂，所以也疯狂的购买ASML的光刻机。按照ASML的数据，2023年，中国大陆从ASML购买了约600亿元的光刻机，排名全球第一。 而之前一年，这个金额大约只有200亿元左右，可见，2023年是以往年份的三倍左右了。 而2024年，则更加夸张，一、二季度，中国大陆购买的光刻机，占ASML的49%、49%、47%。而从金额来看，2024年1-9月份，仅在光刻机销售，不含维修、保养等方面，ASML就向中国大陆销售了一共550亿元左右的光刻机。从这个数字就可以看出来，中国购买ASML的光刻机，有多疯狂了，ASML所销售的光刻机，有接近一半是卖给中国的。 为何中国这么疯狂的买ASML光刻机，当然就是因为中国在疯狂造芯厂，而新增芯片厂，需要大量的ASML光刻机。毕竟光刻机这玩意，只有建设芯片厂才需要，又无法当做别的用途。 不过，当时间进入到2024年四季度之后，形势就变了，中国还在建设芯片厂，但最疯狂的不再是中国，而变成美国了。 按照ASML的数据，如上图所示，2024年四季度，美国所购买的光刻机，...

2024年，先进封装的关键词就一个——“涨价”。涨价浪潮已经从上半年持续到年底，2025年大概率还要涨。2024年12月底，台积电宣布明年继续调涨先进制程、封装代工价格。原因是AI领域对先进制程和封装产能的强劲需求。 日本半导体行业研究学者汤之上隆（曾任职于日立、尔必达的一线研发部门）说道，“迄今为止，摩尔定律通常被理解为每两年，单个芯片上集成的晶体管数量将翻一番。然而，在未来，‘单个芯片’的概念可能将失去其重要性，而‘单个封装’的重要性将日益凸显。因为将各种芯片集成到单个封装中并作为单个系统运行的‘小芯片’（Chiplet）将成为主流。” 在“后摩尔时代”，先进制程升级速度逐渐放缓，同时往前推进边际成本愈发高昂，采用先进封装技术提升芯片整体性能成为集成电路行业技术发展的重要趋势。2025年，全球半导体行业在先进封装领域的投资再度升温，台积电、三星、英特尔等行业巨头纷纷加大对这一领域的研发投入，标志着封装技术将在未来几年成为半导体行业竞争的关键...

随着半导体技术不断发展，先进封装逐渐成为推动行业进步的核心领域之一。3D堆叠、光子学和有机中介层等技术正在不断推动封装的创新，但在实现这些目标的过程中，仍然面临着诸多挑战。 散热问题、热梯度、结构复杂性以及生产和成本问题，都是当前亟待解决的难题。为了推动这些技术的实际应用，业界需要在设计工具、计量学、冷却技术和材料应用等方面取得更大进展。 我们可以从当前先进封装领域的主要技术趋势、挑战及其未来发展方向，特别是如何通过技术创新推动行业向前发展。 先进封装的技术趋势与挑战 在3D-IC（集成电路）和3.5D封装领域，热管理问题一直是技术发展的主要瓶颈之一。 随着器件功率密度的增加，传统的散热解决方案难以满足新的性能需求。针对这一挑战，业内专家提出了通过热机械模拟来优化热管理设计的思路。 然而，现有的热模拟工具仍然无法完全预测复杂热条件下封装内部的温度轮廓，这使得产品的实际应用面临更大的不确定性。加之，高功率芯片的温度分布极为复杂，如何有效管理这些热点问题，成为了技术突破的关键所在。 为了解决这一问题，冷却...

目前几乎所有的芯片制造技术，均是基于光刻工艺来的。 而光刻工艺中，最重要的设备，就是光刻机。目前全球仅4家厂商，拥有前道光刻机生产能力，分别是荷兰的ASML、日本的佳能、尼康，中国的上海微电子。 不过市场主要被ASML垄断，其份额超过了85%，尼康、佳能又占了15%左右，上海微电子的份额几乎为0。 特别是EUV光刻机，ASML垄断100%，高端浸润式DUV光刻机，ASML垄断95%，另外5%为尼康占领，也就是说，从浸润式DUV光刻机开始，几乎全是ASML说了算。 而为了控制全球芯片市场，美国不允许ASML的光刻机随便卖，特别是EUV光刻机、浸润式DUV光刻机，要销售给谁，需要美国的许可证，美国就是通过这样的办法，来制霸全球，来限制中国芯片产业的发展。 而在这样的情况之下，中国厂商当然不会投降，也是努力的研发自己的光刻机，一旦国产光刻机突破，那么我们就不必依然从国外进口了，国产芯片产业也就再也不受限制，美国的禁令就成废纸了。之前我们的光刻机技术，其分辨率已经达到了90nm，处于干式DUV阶段。而近日，又一台国产光刻...