作为全球第一大光刻机厂商，也是唯一掌握EUV光刻机技术的厂商，理论上而言，ASML的日子是相当滋润的。 毕竟EUV光刻机是制造7nm以下芯片必备机器，所以全球的顶尖芯片厂，都要抢ASML的EUV光刻机，看它的脸色行事，它卡着全球芯片厂商的脖子啊。 但是，从最近的情况来看，这家理论上风光无限的光刻机巨头，日子却也没有想象中的好过，原因就是它们的“印钞机”EUV光刻机，似乎失灵了。 我们知道，ASML的光刻机，是与芯片工艺应对的，KrF、ArF、ArFi、EUV等等，对应着不同的工艺。制造什么样的芯片，就要买哪一种光刻机。 而全球的芯片工艺不断前进，所以芯片厂商们，也要不断的买新光刻机，不停的更新换代，ASML为此赚的盆满钵满的。 但是进入到EUV之后，这种更新换代就难了，一方面是研发最新款的EUV光刻机，实在是太难，成本太高了。二是研发出来，也因为成本太高，芯片厂商们不愿意买，卖不掉啊。 先说研发难的问题，之前的EUV光刻机，其NA=0.33也就是数值孔径是0.33，而新一代叫做 High NA EUV，其...

近日，一些媒体报道了英国部署电子束光刻机相关的新闻，并号称打破ASML的EUV技术垄断。部分报道甚至号称这是全球第二台电子束光刻机，能绕过ASML。实际上当前没有任何信息表面该电子束曝光机可以用于5nm制程的芯片量产的光刻环节。在这些媒体的报道中，英国似乎已经拳打ASML，脚踢EUV了。 那事实真的如此吗？实际情况到底如何呢？ 英国部署全球第二台200kV电子束光刻设备 实际上，英国南安普敦大学宣布的是，成功开设了日本以外首个分辨率达5纳米以下的尖端电子束光刻(EBL)中心，可以制造下一代半导体芯片。这也是全球第二个，欧洲首个此类电子束光刻中心。 据介绍，该电子束光刻中心采用了日本JEOL的加速电压直写电子束光刻(EBL)系统，这也是全球第二台200kV系统（JEOL JBX-8100 G3）（第一台在日本），其可以在200毫米晶圆上实现低于5纳米级精细结构的分辨率处理。这可以在厚至10微米的光刻胶中实现，且侧壁几乎垂直，可用于开发电子和光子学领域研究芯片中的新结构。JEOL的第二代EBL设备——100kV JEOL...

在最近一个季度，英伟达、博通、AMD、英特尔、Marvell、SK海力士、美光和三星的数据中心相关出货量超过了 2200 亿美元的年出货量（不包括电源芯片）。 随着 LLM 的快速扩展，预计到 2030 年数据中心的半导体支出将超过 5000 亿美元，占整个半导体行业的 50% 以上。 那么，哪一系列芯片又会随着数据中心的走红同步受益？在此之前，先来了解一下数据中心。 数据中心可以分为IDC（Internet Data Center，互联网数据中心）、EDC（Enterprise Data Center，企业数据中心）、NSC（National Supercomputing Center，国家超级计算中心）。其中，IDC是电信业务经营者利用已有的互联网通信线路、带宽资源，建立标准化的电信专业级机房环境，通过互联网向客户提供服务器托管、租用以及相关增值等方面的全方位服务。 EDC是指由企业或机构构建并所有，服务于企业或机构自身业务的数据中心，是一个企业数据运算、存储和交换的核心计算环境，它为企业、客户及合作伙伴提供数据处理、数据访问等信息，应用支持服务。NSC是指由国家兴建、部署有千万...