ASML的EUV光刻机，走进“死胡同”了？
作为全球第一大光刻机厂商，也是唯一掌握EUV光刻机技术的厂商，理论上而言，ASML的日子是相当滋润的。
毕竟EUV光刻机是制造7nm以下芯片必备机器，所以全球的顶尖芯片厂，都要抢ASML的EUV光刻机，看它的脸色行事，它卡着全球芯片厂商的脖子啊。
但是，从最近的情况来看，这家理论上风光无限的光刻机巨头，日子却也没有想象中的好过，原因就是它们的“印钞机”EUV光刻机，似乎失灵了。
我们知道，ASML的光刻机，是与芯片工艺应对的，KrF、ArF、ArFi、EUV等等，对应着不同的工艺。制造什么样的芯片，就要买哪一种光刻机。
而全球的芯片工艺不断前进，所以芯片厂商们，也要不断的买新光刻机，不停的更新换代，ASML为此赚的盆满钵满的。
但是进入到EUV之后，这种更新换代就难了，一方面是研发最新款的EUV光刻机，实在是太难，成本太高了。二是研发出来，也因为成本太高，芯片厂商们不愿意买，卖不掉啊。
先说研发难的问题，之前的EUV光刻机，其NA=0.33也就是数值孔径是0.33，而新一代叫做 High NA EUV，其数值孔径是0.55。
别小看了只提升这么0.22，但是难度系数增加了N多，导致这一代的High NA EUV研发了好多年才研发出来，至于下一代，会不会有，还不清楚呢。
第一代NA0.33的EUV光刻机，大约是1.5亿美元一台，而新一代的High NA EUV，其价格高达4亿美元，是原来的近三倍了。
1.5亿美元就是10亿多人民币，已经是够厉害了，这一代4亿美元美元，就是近40亿人民币了，已经是贵到离谱了。
所以，客户也没那么傻，能不换成最新的High NA EUV NA0.55光刻机，就尽量不换，毕竟40亿一台，台积电100多台全换要多少钱？4000亿啊。
比如台积电，在2nm工艺时，就不使用这种High NA EUV光刻机，不仅2nm不用，连1.6nm、1.4nm工艺都不用，表示称，价格太贵，划不来，他们研究利用旧的EUV光刻机，来实现先进工艺。
ASML表示，到目前为止，全球也仅卖出5台High NA EUV光刻机，只有intel、三星下了单，其它的客户都不买。
如果其它客户不买，High NA EUV光刻机卖不掉，对于ASML而言，是致命的，意味着所谓的靠EUV光刻机进步，来推动芯片工艺进步，就是最美丽的谎言了，ASML怎么办？
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