2024年,先进封装的关键词就一个——“涨价”。涨价浪潮已经从上半年持续到年底,2025年大概率还要涨。2024年12月底,台积电宣布明年继续调涨先进制程、封装代工价格。原因是AI领域对先进制程和封装产能的强劲需求。 日本半导体行业研究学者汤之上隆(曾任职于日立、尔必达的一线研发部门)说道,“迄今为止,摩尔定律通常被理解为每两年,单个芯片上集成的晶体管数量将翻一番。然而,在未来,‘单个芯片’的概念可能将失去其重要性,而‘单个封装’的重要性将日益凸显。因为将各种芯片集成到单个封装中并作为单个系统运行的‘小芯片’(Chiplet)将成为主流。” 在“后摩尔时代”,先进制程升级速度逐渐放缓,同时往前推进边际成本愈发高昂,采用先进封装技术提升芯片整体性能成为集成电路行业技术发展的重要趋势。2025年,全球半导体行业在先进封装领域的投资再度升温,台积电、三星、英特尔等行业巨头纷纷加大对这一领域的研发投入,标志着封装技术将在未来几年成为半导体行业竞争的关键...
随着半导体技术不断发展,先进封装逐渐成为推动行业进步的核心领域之一。3D堆叠、光子学和有机中介层等技术正在不断推动封装的创新,但在实现这些目标的过程中,仍然面临着诸多挑战。 散热问题、热梯度、结构复杂性以及生产和成本问题,都是当前亟待解决的难题。为了推动这些技术的实际应用,业界需要在设计工具、计量学、冷却技术和材料应用等方面取得更大进展。 我们可以从当前先进封装领域的主要技术趋势、挑战及其未来发展方向,特别是如何通过技术创新推动行业向前发展。 先进封装的技术趋势与挑战 在3D-IC(集成电路)和3.5D封装领域,热管理问题一直是技术发展的主要瓶颈之一。 随着器件功率密度的增加,传统的散热解决方案难以满足新的性能需求。针对这一挑战,业内专家提出了通过热机械模拟来优化热管理设计的思路。 然而,现有的热模拟工具仍然无法完全预测复杂热条件下封装内部的温度轮廓,这使得产品的实际应用面临更大的不确定性。加之,高功率芯片的温度分布极为复杂,如何有效管理这些热点问题,成为了技术突破的关键所在。 为了解决这一问题,冷却...
目前几乎所有的芯片制造技术,均是基于光刻工艺来的。 而光刻工艺中,最重要的设备,就是光刻机。目前全球仅4家厂商,拥有前道光刻机生产能力,分别是荷兰的ASML、日本的佳能、尼康,中国的上海微电子。 不过市场主要被ASML垄断,其份额超过了85%,尼康、佳能又占了15%左右,上海微电子的份额几乎为0。 特别是EUV光刻机,ASML垄断100%,高端浸润式DUV光刻机,ASML垄断95%,另外5%为尼康占领,也就是说,从浸润式DUV光刻机开始,几乎全是ASML说了算。 而为了控制全球芯片市场,美国不允许ASML的光刻机随便卖,特别是EUV光刻机、浸润式DUV光刻机,要销售给谁,需要美国的许可证,美国就是通过这样的办法,来制霸全球,来限制中国芯片产业的发展。 而在这样的情况之下,中国厂商当然不会投降,也是努力的研发自己的光刻机,一旦国产光刻机突破,那么我们就不必依然从国外进口了,国产芯片产业也就再也不受限制,美国的禁令就成废纸了。之前我们的光刻机技术,其分辨率已经达到了90nm,处于干式DUV阶段。而近日,又一台国产光刻...