4月24日，据韩媒THE ELEC方面透露称，三星电子副董事长、DX（电视、移动）事业部负责人韩宗熙与电视事业部采购副总裁张相益等人于22日、23日分别访问了中国京东与惠科股份。4月22日，韩宗熙与张相益等人在与中国北京京东总部相关人士会面后还举行了研讨会，但会议相关内容未流出。韩国业内认为，当下正值中国面板“一哥”京东方收购LGD广州G8．5 TFT－LCD工厂之际，三星电子在此时进行访问很有可能是为了LCD TV面板订单所来。虽然LGD广州G8．5 TFT－LCD工厂的买家不止京东方一家，但业内普遍认为京东方成功的几率最大。据悉，京东方早在其他买家之前，就已在2024年2月份对LGD广州LCD工厂进行了非正式的实地考察。 4月23日，韩宗熙与张相益等人还访问了中国LCD面板巨头惠科股份，而此次访问属于对惠科股份的友好回访（惠科股份曾于2022年在韩访问了三星电子）。 韩国业内推测，由于惠科股份主要向三星电子供应中低端的LCD TV面板，且其比重很大，因此三星电子回访惠科股份很有可能进行了LCD TV面板采购...

据了解北京一家企业正在研发一种利用现有光刻机生产5纳米工艺的技术，预计很快就能实现量产，该工艺的核心技术是自对准四重图案化（SAQP）技术，类似技术曾被台积电用于7纳米，Intel也曾试图利用该项技术。 Intel是最早考虑多重曝光技术的，2014年它就已量产14纳米工艺，2016年ASML还没量产EUV光刻机，Intel就试图利用DUV光刻机辅以多重曝光技术，提升晶体管密度，研发自己的10纳米工艺，结果Intel玩砸了，EUV光刻机量产后，Intel都未量产10纳米，又推倒重来采用EUV光刻机生产10纳米。 台积电的7纳米工艺就采用了DUV光刻机生产，如此做是为了尽快量产7纳米，并确保7纳米工艺的量产；当时三星却率先采用了EUV光刻机生产7纳米，结果是台积电用DUV光刻机生产的7纳米良率更高，在吃透了7纳米技术之后，台积电再用EUV光刻机生产7纳米，提升7纳米技术的性能。 Intel的10纳米被认为与台积电和三星的7纳米相当，这也是业界质疑台积电和三星玩数字游戏的原因，而台积电的10纳米工艺几乎是昙花一现，7纳米量产后，10纳米几乎被舍弃，芯片企...

近期，在2023上海半导体展上，半导体封装材料专家——汉高带来了众多创新技术和方案，包括车规级解决方案、高导热芯片粘接解决方案、芯片粘接膜解决方案和先进封装解决方案等，OFweek维科网有幸采访了汉高粘合剂电子事业部半导体全球市场总监Ram Trichur以及汉高粘合剂电子事业部亚太地区技术负责人倪克钒博士，针对展品、技术、未来发展趋势及规划，展示汉高的前瞻布局和判断。 作为一家有140多年历史的公司，汉高的粘合剂技术已经运用汽车、包装、运动与时尚等多个行业。针对电子行业，已经涵盖包括半导体封装、模组制造、电路板组装、终端设备等多个环节，拥有较为全面的解决方案。 全方位解决方案，助力先进封装 为充分助力半导体产业发展，汉高针对产业中下游，都提供了不同的配套解决方案，除了传统打线封装的导电粘接胶，更是创新研发出针对先进封装、高导热应用的新材料、新技术，并与客户充分合作，满足市场需求。 基于原有的技术实力和实践积累，汉高在先进封装领域提供的解决方案主要包含三大优势。 一方面，针对底部填充，汉高的解决方案足以...

和大家熟悉的CPU、GPU、DRAM、NAND等芯片不同，IGBT芯片是新型电力电子器件，是电力电子装置的“CPU”（中央处理器）。 它甚至被公认是第三大电力电子器件，在众多的行业都会用到，特别是消费、工业、汽车三大类，在新能源汽车中，需要大量用到IGBT芯片。 以前IGBT芯片，是被欧美厂商垄断的，比如英飞凌、三菱、法雷傲等。国内需要的IGBT芯片，大多需要进口。 数据显示，在2019年时，国内的IGBT芯片自给率大约只有20%左右，也就是说另外的80%靠进口。不过，到了2023年时，市场格局就已经洗了牌，比亚迪已经成为了第一名，份额高达28.9%，英飞凌已跌下神坛，只有14.5%的份额了，中车份额提升至12.5%，斯达也增至8.3%，另外原来很多国内份额可以忽略的厂商，份额也是大幅度提升，超过了日本、欧洲的品牌。 算下来，中国本土品牌的IGBT芯片份额已经占到60%，相比于2019年的20%，份额直接就变成了原来的3倍左右。 为何涨的这么快？原因就是国产新能源汽车高速发展，带动了国产供应链的发展，毕竟中国新能源汽车，目前已...

日本索尼正通过大规模生产激光二极管来显著提升大容量机械硬盘（HDD）的存储容量，以满足全球AI数据中心日益增长的数据存储需求。据悉，从5月开始，索尼半导体解决方案将与美国知名存储解决方案提供商希捷科技（Seagate）紧密合作，共同生产这些先进的激光二极管。这些二极管将应用于3.5英寸HDD，其存储容量高达30TB，是现有型号的两倍之多。这一突破性的技术进展不仅提高了数据存储的密度，还为数据中心带来了更高效、更可靠的存储解决方案。为了支持这一创新技术的推广和应用，索尼计划投资约50亿日元（约合3300万美元）来扩建其在日本宫城县和泰国的生产设施。这一举措不仅将提升索尼的产能，还有助于推动其在全球半导体市场的地位进一步提升。这项技术进步的特点在于其极高的精度，激光能够精确地瞄准磁盘表面百万分之一毫米的区域。通过将存储区域加热至400度或更高，索尼的激光二极管技术能够实现更紧密的数据打包，从而显著扩展HDD的存储能力。这一创新不仅提高了数据存储的效率和可靠性，还为数据中心带来了更高的性能和更低的能耗。 在全球数据...

2023年，是ASML狂欢的一年，这一年卖出了276亿欧元的光刻机，同比增长30%，而净利润为78亿欧元，同比增长43%，毛利率高达51.3%。 2023年这一年，ASML卖出了53台EUV光刻机，125台浸润式DUV光刻机，32台普通干式DUV光刻机，184台KrF光刻机，55台L-line光刻机，所有类型的光刻机，都比2022年销量多。 而对于2024年，ASML不乐观表示预计和2023年差不多。 事实上，2024年，理应是ASML大量发展的一年，为何预计却不会再有什么增长呢？原因在于ASML的EUV光刻机，已经发展到极限，难有下一代了，前路已经被堵了。 目前ASML最大的营收来源，其实是靠EUV光刻机，2023年为例，53台EUV光刻机，每台1.8亿美元左右，这里就贡献了近100亿美元，三分之一啊。 现在主要销售的EUV光刻机，是NA=0.33的光刻机，NA也称之为数值孔径，也称之为Low-NA系统，因为0.33是低数值孔径。 这种光刻机，能实现26nm的最小金属间距和25-30nm尖端到尖端的近似互连空间间距，比较理想的，是实现3nm的芯片制造。 而NA=0.55的光刻机，数值孔径变大...